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GaAs/GaN用快速退火炉又名RTP设备，此设备为型号AS-One系列，分为可以处理4“基片的AS-ONE100以及处理6“基片的AS-ONE150，更小的基片可使用基片托。主要用于大学，研究实验室以及年产量高达10000晶圆的小规模生产。

详情介绍

　GaAs/GaN用快速退火炉

北京朗铭润德光电科技有限公司是一家在半导体微电子、高精密光学镀膜领域，光伏、光热、锂电池等新能源领域以及窗膜、汽车膜、柔性电路板等行业提供专业相关工艺设备的代理公司。
 　　从2006年起与德国著名微电子设备专业厂家FHR公司开始合作，并于2008年成为其中国区的代理机构。通过我们的合作，使 FHR的产品逐渐进入中国，并成为国内镀膜设备的供货商。
 　　我们于 2010 年在北京石景山中关村高科技园区成立了专业代理国外微电子半导体及相关设备的北京朗铭润德光电科技有限公司，并与*技术供货商建立合作关系，为公司全面化运转及操作奠定了良好开 1、设备尺寸详情：
 　　AS-0NE100：530*800*1425mm　　AS-0NE150：530*800*1425mm
 　　2、型号介绍：
 　　不锈钢水冷壁腔室壁真空快速退火炉(快速热处理炉)，具有4英寸(100 mm) 和 6英寸 (150 mm) 两种版本
 　　3、性能和特征：
 　　可处理4-inch 及以下和 6-inch 及以下的晶圆，可适用大范围类型的基片：硅和化合物半导体晶圆，GaN /蓝宝石和碳化硅晶圆，多晶硅晶圆，玻璃，金属，高分子聚合物，石墨和碳化硅托盘等等。
 　　设备应用具有：硒化、硫化、接触退火，注入退火，RTO (快速热氧化) ，RTN (快速热氮化) ，硅平滑，扩散，致密化和结晶化，石墨烯CVD，碳纳米管等。
 　　不锈钢水冷腔壁技术，高工艺复现性，超洁净及无污染环境
 　　高冷却速率，低记忆效应
 　　具有真空能力，可选配分子泵
 　　温度控制：高温计和热电偶控制+快速数字PID温度控制器
 　　边缘高温计视口，确保用于化合物半导体和小型样品
 　　基片托的温度控制GaAs/GaN用快速退火炉

　　AS-0NE100：530*800*1425mm