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商品详情
1.等离子体激发与稳定控制:
●提供直流、中频和高频电源，用于产生和维持等离子体状态，应用于磁控溅射镀膜、离子注入等工艺。
●典型型号包括TruPlasma DC/MF/RF系列， 支持13.56MHz高频及千瓦级功率输出。
2.激光激励电源:
●CO2激光高频电源是核心产品之一，为工业激光切割、焊接设备提供能量转换支持。
3.半导体与新能源应用:
●电源系统用于微芯片、液晶屏幕、太阳能电池的纳米级薄膜沉积和刻蚀工艺。
●在粒子加速器中，微波放大器可提供电子/质子加速所需能量。
4.工艺稳定性保障:
●具备快速灭弧功能和高精度输出，满足半导体、光伏等行业对工艺稳定性的严苛要求。
●提供直流、中频和高频电源，用于产生和维持等离子体状态，应用于磁控溅射镀膜、离子注入等工艺。
●典型型号包括TruPlasma DC/MF/RF系列， 支持13.56MHz高频及千瓦级功率输出。
2.激光激励电源:
●CO2激光高频电源是核心产品之一，为工业激光切割、焊接设备提供能量转换支持。
3.半导体与新能源应用:
●电源系统用于微芯片、液晶屏幕、太阳能电池的纳米级薄膜沉积和刻蚀工艺。
●在粒子加速器中，微波放大器可提供电子/质子加速所需能量。
4.工艺稳定性保障:
●具备快速灭弧功能和高精度输出，满足半导体、光伏等行业对工艺稳定性的严苛要求。
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