曝光过程包括：聚焦、对准、曝光、步进和重复以上过程。

    光学曝光技术经历了不同的发展阶段。harmonic光刻机系统谐波CSF-25-160-2A-GR按照掩模版与硅片的位置关系区分，从最初的接触式曝光，发展到接近式曝光，直到现在的投影式曝光。曝光光源主要使用紫外光、深紫外光、harmonic光刻机系统谐波CSF-25-160-2A-GR极紫外光，现今最常用的是：汞灯和准分子聚光光源。

    光刻设备的发展和使用经历了五个不同阶段，分别是：接触式光刻机、接近式光刻机、扫描投影光刻机、分步重复光刻机、步进扫描光刻机。

   曝光与对准过程主要由光刻机完成。harmonic光刻机系统谐波CSF-25-160-2A-GR光刻机造价高昂，是非常复杂的系统，涉及的技术也非常多。光刻机是芯片生产的关键设备，也是电子制造的核心技术设备