以光学紫外曝光为例，首先将硅片定位在光学系统的聚焦范围内，日本HD关节轴组合谐波CSF-25-160-2A-GR硅片的对准标记与掩模版上相匹配的标记对准后，紫外光通过光学系统和掩模版图形进行投影。掩模版图形若以亮暗的特日本HD关节轴组合谐波CSF-25-160-2A-GR征出现在硅片上，这样光刻胶就曝光了。

    8所示为紫外曝光系统曝光过程示意图。该曝光系统包括一个紫外光源、一个光学系统、一块由芯片图形组成的投影掩模版、一个对日本HD关节轴组合谐波CSF-25-160-2A-GR准系统和涂过光刻胶的硅片。硅片放在可以实现X、Y、Z、?方向运动的承片台上，由对准激光系统实现承片台上的硅片与掩模版之间的对准，由光源系统、投影掩模版、投影透镜实现硅片上光刻胶的曝光。