光刻胶最基本的组成是有机溶剂中的一种聚合物溶液。日本HD旋转伺服谐波FHA-40C-100-E250-BC光刻胶的物理特性包括分辨率、对比度、敏感度、粘滞性、粘附性、抗蚀性、表面张力、存储与传送特性、玷污和颗粒控制等。光刻胶主要有两个作用：将掩膜版上的图形转移到光刻胶上，在后续工艺中保护下面的材料。光刻胶适合于旋转涂胶，硅片会持续旋日本HD旋转伺服谐波FHA-40C-100-E250-BC转涂胶直到硅片表面形成一层薄膜。光刻胶涂覆方法的四个基本步骤分别为滴胶、旋转铺开、旋转甩掉多余胶、溶剂挥发。

       硅片上光刻胶涂胶的厚度和均匀性是非常关键的质日本HD旋转伺服谐波FHA-40C-100-E250-BC量参数。光刻胶涂覆过程中主要技术参数为：滴胶量，约1~3CC；成膜厚度约1微米左右，厚度变化20-50?。硅片吸附在真空吸盘上，