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是真正涂布粘着在晶圆上之数十甚至数百倍，极其可惜；哈默纳科涂布机谐波齿轮SHF-40-80-2UH因为甩到晶圆外的光阻中有机溶剂迅速挥发逸散，成份大变，不能回收再使用。
5、厚光阻
德国Karl-Suss公司开发了一种新型的光阻涂布机，哈默纳科涂布机谐波齿轮SHF-40-80-2UH称为GYRSET??，其卖点在于强调可减少一半的光阻用量，且得出更均厚的光阻分布。其原理极为单纯：只是在真空转台上加装了跟着同步旋转的盖子。如此一来，等于强迫晶圆与盖子之间的空气跟着旋转，那么光阻上便无高转速差哈默纳科涂布机谐波齿轮SHF-40-80-2UH的粘性旋转拖曳作用。故光阻在被涂布时，其与周遭流体之相对运动并不明显
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